電子淨化廠房施工公司在潔淨室建設規模和技術水平上，我國與先進差距更大。日本清水建設公司一家，1982年到1987年期間承建的潔淨室麵積達71.8萬平方米，而我國目前一年承建的潔淨室總麵積還不到10萬平方米，1993年承建潔淨室總麵積已接近15萬平方米。美國的潔淨室建設規模更大，1998年統計已達188.5萬平方米。

　　在潔淨工程技術水平上，80年代末期，國外已大量建成0.1微米級的超淨室，1987年日本三洋新瀉工場建成十級潔淨廠房3000平方米，NIT原木則建成了四個1000平方米控製0.1微米塵埃的千級廠房，換氣次數高達300次/分。美國在台灣的TSMCS新廠已建成第四代管道式潔淨室總麵積達10000平方米。我國使用的0，1微米十級潔淨室主要依賴從國外進口。

　　由於高潔淨級別的潔淨室造價十分昂貴，0.1微米十級潔淨室每平方米造價高達1萬美元以上。在大規模集成電路製造裝備的投資中潔淨廠房占有相當高的比例，這與集成電路工藝不斷更新，產品更新換代周期越來越快的發展趨勢不相適應，嚴重製約了大規模集成電路技術的發展。美國ASYST公司、德國MW公司發展的使用隔離技術的亞微米生產微環境係統設備和技術在近幾年中得到廣泛采用。